著錄信息
- 專利名稱：適用于二次燒成用的無鉛熔塊釉
- 專利類型：發(fā)明
- 申請(qǐng)?zhí)枺?/em>CN200610044877.6
- 公開(公告)號(hào)：CN100376502C
- 申請(qǐng)日：20060614
- 公開(公告)日：20080326
- 申請(qǐng)人：山東硅苑新材料科技股份有限公司
- 發(fā)明人：張儒嶺,王磊,尚慶剛,任允鵬
- 申請(qǐng)人地址：255086山東省淄博市開發(fā)區(qū)柳泉路264號(hào)
- 申請(qǐng)人區(qū)域代碼：CN370306
- 專利權(quán)人：山東硅苑新材料科技股份有限公司
- 洛迦諾分類：無
- IPC：C03C8/02,C04B41/86
- 優(yōu)先權(quán)：無
- 專利代理機(jī)構(gòu)：淄博科信專利商標(biāo)代理有限公司
- 代理人：馬俊榮
- 審查員：焦磊
- 國際申請(qǐng)：無
- 國際公開(公告)：無
- 進(jìn)入國家日期：無
- 分案申請(qǐng)：無
關(guān)鍵詞
無鉛,鎂質(zhì)瓷,產(chǎn)品成品率,化學(xué)重量,健康環(huán)保,素?zé)黧w,一級(jí)品率,釉面質(zhì)量,骨質(zhì)瓷,石英瓷,蔽光,瓷釉,二次,鎂質(zhì),燒成,匹配
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