著錄信息
- 專利名稱：一種改進(jìn)型隔環(huán)裝置
- 專利類型：實(shí)用新型
- 申請?zhí)枺?/em>CN201120025526.7
- 公開(公告)號：CN201973352U
- 申請日：20110126
- 公開(公告)日：20110914
- 申請人：上海高中壓閥門股份有限公司
- 發(fā)明人：胡照國,趙文乾,朱梅,關(guān)旭鋒
- 申請人地址：201401 上海市奉賢區(qū)奉金路365號
- 申請人區(qū)域代碼：CN310120
- 專利權(quán)人：上海高中壓閥門股份有限公司
- 洛迦諾分類：無
- IPC：F16K41/04,F16K41/02
- 優(yōu)先權(quán)：無
- 專利代理機(jī)構(gòu)：上海三方專利事務(wù)所 31127
- 代理人：吳干權(quán)
- 審查員：無
- 國際申請：無
- 國際公開(公告)：無
- 進(jìn)入國家日期：無
- 分案申請：無
關(guān)鍵詞
密封,閥桿,泄漏,密封圈,閥蓋填料函,操作機(jī)構(gòu),加工成本,加工性能,徑向密封,密封溝槽,平板閘閥,柔性石墨,填料泄漏,異常損壞,加注閥,零泄漏,密封件,密封脂,填料函,往復(fù),閥蓋,閥門,閥體,閘板,注脂,橡膠,輔助,損壞,應(yīng)急,中部,連接
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