著錄信息
- 專利名稱：化學氣體沉積設備
- 專利類型：實用新型
- 申請號：CN201621025867.3
- 公開(公告)號：CN206033928U
- 申請日：20160831
- 公開(公告)日：20170322
- 申請人：圓融光電科技股份有限公司
- 發明人：焦建軍,黃小輝,周德保,康建,梁旭東
- 申請人地址：243000 安徽省馬鞍山市經濟技術開發區寶慶路399號1棟
- 申請人區域代碼：CN340503
- 專利權人：圓融光電科技股份有限公司
- 洛迦諾分類：無
- IPC：C30B25/02,C30B29/40
- 優先權：無
- 專利代理機構：北京同立鈞成知識產權代理有限公司 11205
- 代理人：張洋;黃健
- 審查員：無
- 國際申請：無
- 國際公開(公告)：無
- 進入國家日期：無
- 分案申請：無
關鍵詞
反應腔,清潔氣體,吸塵器,通孔,輸出管,吸塵管,插設,半導體照明設備,化學氣體沉積,本實用新型,二次污染,氣體交換,外界空氣,出氣口,吸塵口,氧分子,包圍,生長,保證
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