著錄信息
- 專利名稱：化學(xué)氣體沉積設(shè)備
- 專利類型：實(shí)用新型
- 申請(qǐng)?zhí)枺?/em>CN201621025867.3
- 公開(kāi)(公告)號(hào)：CN206033928U
- 申請(qǐng)日：20160831
- 公開(kāi)(公告)日：20170322
- 申請(qǐng)人：圓融光電科技股份有限公司
- 發(fā)明人：焦建軍,黃小輝,周德保,康建,梁旭東
- 申請(qǐng)人地址：243000 安徽省馬鞍山市經(jīng)濟(jì)技術(shù)開(kāi)發(fā)區(qū)寶慶路399號(hào)1棟
- 申請(qǐng)人區(qū)域代碼：CN340503
- 專利權(quán)人：圓融光電科技股份有限公司
- 洛迦諾分類：無(wú)
- IPC：C30B25/02,C30B29/40
- 優(yōu)先權(quán)：無(wú)
- 專利代理機(jī)構(gòu)：北京同立鈞成知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11205
- 代理人：張洋;黃健
- 審查員：無(wú)
- 國(guó)際申請(qǐng)：無(wú)
- 國(guó)際公開(kāi)(公告)：無(wú)
- 進(jìn)入國(guó)家日期：無(wú)
- 分案申請(qǐng)：無(wú)
關(guān)鍵詞
反應(yīng)腔,清潔氣體,吸塵器,通孔,輸出管,吸塵管,插設(shè),半導(dǎo)體照明設(shè)備,化學(xué)氣體沉積,本實(shí)用新型,二次污染,氣體交換,外界空氣,出氣口,吸塵口,氧分子,包圍,生長(zhǎng),保證
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