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著錄信息

  • 專利名稱:雙柵MOS結構的功率晶體管
  • 專利類型:實用新型
  • 申請號:CN201420134117.4
  • 公開(公告)號:CN203774335U
  • 申請日:20140324
  • 公開(公告)日:20140813
  • 申請人:江蘇宏微科技股份有限公司
  • 發明人:張景超,戚麗娜,劉利峰,王曉寶,趙善麒
  • 申請人地址:213022 江蘇省常州市新北區華山中路18號
  • 申請人區域代碼:CN320411
  • 專利權人:江蘇宏微科技股份有限公司
  • 洛迦諾分類:
  • IPC:H01L29/78,H01L29/423,H01L21/336,H01L21/28
  • 優先權:
  • 專利代理機構:常州市維益專利事務所 32211
  • 代理人:賈海芬
  • 審查員:
  • 國際申請:
  • 國際公開(公告):
  • 進入國家日期:
  • 分案申請:

關鍵詞

多晶硅柵,摻雜,絕緣介質層,柵氧化層,多晶硅,有源,最佳性能狀態,功率晶體管,電流溝道,焊接區域,金屬引線,金屬層,引線孔,連接,雙柵,隔離,分割,延伸
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