電子顯微鏡和光學(xué)顯微鏡的區(qū)別

1、照明源不同

電子顯微鏡所用的照明源是電子槍發(fā)出的電子流，而光學(xué)顯微鏡的照明源是可見光(日光或燈光)，由于電子流的波長(zhǎng)遠(yuǎn)短于光波波長(zhǎng)，故電子顯微鏡的放大及分辨率顯著地高于光鏡。

2、透鏡不同

電子顯微鏡中起放大作用的物鏡是電磁透鏡(能在中央部位產(chǎn)生磁場(chǎng)的環(huán)形電磁線圈)，而光學(xué)顯微鏡的物鏡則是玻璃磨制而成的光學(xué)透鏡。電子顯微鏡中的電磁透鏡共有三組，分別與光學(xué)顯微鏡中聚光鏡、物鏡和目鏡的功能相當(dāng)。

3、成像原理不同

在電子顯微鏡中，作用于被檢樣品的電子束經(jīng)電磁透鏡放大后打到熒光屏上成像或作用于感光膠片成像。其電子濃淡的差別產(chǎn)生的機(jī)理是，電子束作用于被檢樣品，入射電子與物質(zhì)的原子發(fā)生碰撞產(chǎn)生散射，由于樣品不同部位對(duì)電子有不同散射度，故樣品電子像以濃淡呈現(xiàn)。而光學(xué)顯微鏡中樣品的物像以亮度差呈現(xiàn)，它是由被檢樣品的不同結(jié)構(gòu)吸收光線多少的不同所造成的。

4、分辨率

光學(xué)顯微鏡因?yàn)楣獾母缮媾c衍射作用，分辨率只能局限于02-05um之間。電子顯微鏡因?yàn)椴捎秒娮邮鳛楣庠矗浞直媛士蛇_(dá)到1-3nm之間，因此光學(xué)顯微鏡的組織觀察屬于微米級(jí)分析，電子顯微鏡的組織觀測(cè)屬于納米級(jí)分析。

5、景深

一般光學(xué)顯微鏡的景深在2-3um之間，因此對(duì)樣品的表面光滑程度具有極高的要求，所以制樣過程相對(duì)比較復(fù)雜。掃描電鏡的精神則可高達(dá)幾個(gè)毫米，因此對(duì)樣品表面的光滑程度幾何沒有任何要求，樣品制備比較簡(jiǎn)單，有些樣品幾何無需制樣。體式顯微鏡雖然也具有比較大的景深，但其分辨率卻非常的低。

6、所用標(biāo)本制備方式不同

電子顯微鏡觀察所用組織細(xì)胞標(biāo)本的制備程序較復(fù)雜，技術(shù)難度和費(fèi)用都較高，在取材、固定、脫水和包埋等環(huán)節(jié)上需要特殊的試劑和操作，最后還需將包埋好的組織塊放人超薄切片機(jī)切成50～100nm厚的超薄標(biāo)本片。而光鏡觀察的標(biāo)本則一般置于載玻片上，如普通組織切片標(biāo)本、細(xì)胞涂片標(biāo)本、組織壓片標(biāo)本和細(xì)胞滴片標(biāo)本。

7、應(yīng)用領(lǐng)域

光學(xué)顯微鏡主要用于光滑表面的微米級(jí)組織觀察與測(cè)量，因?yàn)椴捎每梢姽庾鳛楣庠匆虼瞬粌H能觀察樣品表層組織而且在表層以下的一定范圍內(nèi)的組織同樣也可被觀察到，并且光學(xué)顯微鏡對(duì)于色彩的識(shí)別非常敏感和準(zhǔn)確。電子顯微鏡主要用于納米級(jí)的樣品表面形貌觀測(cè)，因?yàn)閽呙桦婄R是依靠物理信號(hào)的強(qiáng)度來區(qū)分組織信息的，因此掃描電鏡的圖像都是黑白的，對(duì)于彩色圖像的識(shí)別掃描電鏡顯得無能為力。掃描電鏡不僅可以觀察樣品表面的組織形貌，通過使用EDS、WDS、EBSD等不同的附件設(shè)備，掃描電鏡還可進(jìn)一步擴(kuò)展使用功能。通過使用EDS、WDS輔助設(shè)備，掃描電鏡可以對(duì)微區(qū)化學(xué)成分進(jìn)行分析，這一點(diǎn)在失效分析研究領(lǐng)域由為重要。使用EBSD，掃描電鏡可以對(duì)材料的晶格取向進(jìn)行研究。

8、放大倍數(shù)

光學(xué)顯微鏡有效放大倍數(shù)1000X。電子顯微鏡有效放大倍數(shù)可達(dá)到1000,000X 。