一、光刻機和芯片有什么關系
光刻機又被稱為掩膜對準曝光機，在芯片生產中用于光刻工藝，而光刻工藝又是生產流程中最關鍵的一步，所以光刻機又是芯片生產中不可缺少的設備，總得來說光刻機是用來制造芯片的。
光刻機是光刻技術的載體，而光刻技術是芯片技術的重要部分，光刻機的原理就是用光把圖案投射到硅片上。如果想要自主生產芯片，光刻機是必要的，就像工業中的機床一樣。
光刻機與芯片存在著密不可分的關系。芯片與光刻機的關系，就好比是魚和水。沒了光刻機，再高端的芯片技術也只能停留在理想層面。目前，世界最高端的光刻機來自荷蘭，相信不久之后中國也能擁有獨立自主的光刻機技術。
二、光刻機和芯片哪個更難
都很難的。因為芯片從設計到生產制造都是一個復雜工藝，目前國內，芯片設計軟件和生產核心光刻機都是國外的。不過光刻機難度最大，因為再好的設計也需要做出來才能算成功，而且還要保持良品率。
以我們掌握程度為難易判斷標準，我們掌握了就不算難，沒掌握的就算難。
芯片設計，手機通信我們有華為，中興，展銳等。通用桌面服務器有龍芯，華為，申威等。我們已經具有完整的正向設計能力，部分芯片設計已經接近頂尖水平，差距一代不到。
芯片制造，中芯國際量產14納米，有望突破7納米。華虹半導體也已經初步量產14納米。跟最先進的臺積電和三星半導體比還有很大的差距，差距一代多。
光刻機，我們可以完全自主量產90納米光刻機。現在最先進的極紫外光刻機只有荷蘭ASML能夠供貨，我們跟ASML差了三代。根據公開信息，我們28納米光刻機關鍵部件已經全部完成攻關，今年底有望出整機樣機，兩年內量產。28納米現在世界上有兩個國家量產，荷蘭和日本。我們今年如果能夠踏入這個陣營，差距縮小到一代。
綜合起來，光刻機差距現在最大，是最難的。但不管什么技術，只要持續不斷的投入，不被眼前的困難嚇倒，培養人才梯隊，追趕和超越是遲早的。
